主要技术参数
项目 | 指标 |
检测基体 | 铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基、锰基、铬基等13个基体 |
光学系统 | 帕型-龙格 罗兰圆全谱真空型光学系统 |
波长范围 | 165-589nm（可安装上下限检测器扩大波长范围） |
探 测 器 | 高分辩率多CMOS图像传感器 |
光源类型 | DDD数字激发光源，高能预燃技术（HEPS） |
放电频率 | 100-1000Hz |
放电电流 | 最大400A |
检测时间 | 依据样品类型而定，一般在25s左右 |
电极类型 | 钨材喷射电极 |
分析间隙 | 样品台分析间隙:3.4mm |
真空系统 | 真空软件自动控制、监测 |
氩气纯度 | 99.999% |
氩气压力 | 0.5MPa |
工作电源 | AC220V 50/60Hz |
仪器尺寸 | 750*560*350mm |
仪器重量 | 约70kg |
五、仪器技术特点
设备拥有多项专利技术，可快速的对金属材料样品进行元素测定。光学系统采用CMOS检测器，光谱范围覆盖全部典型材料。无论从低含量元素还是到高含量的元素，它都能准确、可靠的分析。，针对不同材料、不同要求，具有性价比高的全谱直读光谱仪，可满足金属制造业、加工业及金属冶炼用于质量监控、材料牌号识别、材料研究和开发的应用。
1、性能优越的光学系统
帕邢-龙格结构凹面光栅，全谱覆盖，满足客户对全元素检测的需求。
直射式光学技术及采用MgF材料制作的光学器件，保证紫外区域的最佳性能。
高分辩率多CMOS读出系统，更低的暗电流，更好的检出限，更高的稳定性，更强的灵敏度，满足N的分析要求。
2、大能量的数字激发光源
全数字化智能复合光源DDD技术，带来优越分析性能。
紧凑的设计及半导体控制技术，使得光源具有更好的稳定性、更强的可靠性。
高能预燃技术（HEPS),激发参数调整，充分满足不同基体、不同样品以及不同分析元素的激发要求。
3、人性化的样品激发台设计
激发台直接将激发光导入光学系统
开放式样品台，满足大样品测试要求。
变换电极可对小样品及复杂几何形状样品分析有更好的性能
4、简洁的氩气流设计
智能氩气流设计及粉尘收集清理装置
独特的氩气喷射技术，有效消除激发过程中等离子体的飘移，确保CCD检测器能够观测高温区域光信号，提高精度和稳定性。
激发后，脉冲式氩气吹扫，提高粉尘去除效果，提升仪器的短期和长期稳定性。
5、全智能的真空测量和控制
真空系统完全程控，在保证真空度的同时减少真空泵的运行时间，
双级设置，在仪器不运行的情况下，开启待机真空运行状态。
多级真空隔离措施及增加滤油装置，保障光学元器件在可靠的环境中工作。
6、方便快捷的透镜清理装置
一体化的真空球阀，在清理透镜时有良好的隔离效果。
单板式透镜设计，拆装方便。
交叉机械装置，在未解除隔离的情况有效保护光学系统。
7、云计算及读出系统
计算机与手机（或PAD)可同步显示，方便面板操作。
高分辩率多CMOS读出系统及FPGA、DSP和ARM技术，进行数据采集。
以太网和TCP/IP协议，数据传输高速、可靠。
数据可远程传输，全面实现网络化。实时方便对仪器运行状态的监测和控制。
数据可进行云打印。
8、专用的光谱分析软件
国际光谱仪制作标准的专用光谱仪软件，操作界面人性化，功能标准化。
仪器在软件中配备多条工厂校正曲线及更多材质分析方法和先进的解决方案。
可根据用户的材料要求，可现场延长标准曲线的测量上、下限。
9、仪器及软件运算功能强大
自动光路校准
低氩气消耗
通用可调样品适配器
基体扩展功能
标准化参数修改
控样修正功能
更安全、更开放的便捷设计
结果实时显示，可为用户定制打印报告功能
软件快速诊断
界面操作简单
可靠的工厂校准功能